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　　实(shí )现(xiàn )关键(jiàn )技术突破，该领域近日迎来多个(gè )重(chóng )大成(chéng )果(guǒ )发布

　　当地时间3月17日至21日，英伟(wěi )达(dá )即(jí )将在美国加州圣何塞举办全球AI界顶(dǐng )级(jí )峰(fēng )会——GTC2025。今年英伟达还首次推出了(le )“量子(zǐ )日(rì )”(3月20日)，该活动将聚焦量子运(yùn )算的(de )现(xiàn )状(zhuàng )与未来发展，并邀请D-Wave、IonQ等业界领袖(xiù )共(gòng )同(tóng )讨论量子技术的应用。据悉，英伟(wěi )达(dá )还可(kě )能(néng )展示其在量子计算领域的最新(xīn )进(jìn )展。值(zhí )得一提是，上周五美股量子计(jì )算概(gài )念(niàn )股(gǔ )表现强势，QBTS收涨逾45%，QUBT收涨逾29%，ARQQ收涨(zhǎng )逾(yú )15%。

　　新规落地！6月起电子烟生产企(qǐ )业(yè )许可(kě )证(zhèng )将添核定产能

　　媒体报道，2025年的(de )中(zhōng )国(guó )商业航天，正以一种前所未有的加(jiā )速(sù )度(dù )，驶入产业化的快车道。一个最直(zhí )观(guān )的信(xìn )号(hào )，是来自资本市场的“真金白(bái )银(yín )”。记(jì )者不完全统计，仅在今年的前(qián )五个(gè )月(yuè )，中国商业航天领域已公开披露及可(kě )估(gū )算(suàn )的融资金额，累计已超过10亿元人民(mín )币(bì )。

　　据媒体报道，智谱AI今日宣布，公司(sī )近(jìn )期(qī )完成新一轮30亿元融资，新投资方包(bāo )括(kuò )多(duō )家战投及国资，君联资本等老股东(dōng )继(jì )续跟(gēn )投(tóu )。本轮融资将用于智谱GLM大模型(xíng )系(xì )列的(de )进(jìn )一步研发，从回答问题到解决(jué )复杂(zá )推(tuī )理(lǐ )、多模态任务，更好地支撑行业生(shēng )态(tài )发(fā )展。这是智谱AI近期可查的第二轮融(róng )资(zī )。2024年(nián )9月(yuè )，中关村科学城公司宣布以投(tóu )前200亿(yì )估(gū )值(zhí )领投智谱，用于支持国产基座大模(mó )型(xíng )的(de )技术创新和生态发展。这也使得智(zhì )谱(pǔ )AI不仅(jǐn )是(shì )估值率先超过200亿的大模型创业(yè )企(qǐ )业之(zhī )一(yī )，也是目前国内估值最高的创业大(dà )模(mó )型(xíng )公司之一。

　　据媒体报道，针对(duì )英(yīng )伟(wěi )达GB200 AI服务器是否量产，鸿海董事长刘(liú )扬(yáng )伟在(zài )法(fǎ )说会上表示，经过半年多来的(de )数据(jù )收(shōu )集(jí )，GB200的良率已经达到批量生产标准，GB200是(shì )一(yī )个很复杂的系统，零组件又很多，使(shǐ )得测(cè )试(shì )也非常复杂，经过流程不断改(gǎi )善(shàn )之后(hòu )，生产已经愈来愈稳定，未来几个季(jì )度(dù )出(chū )货将不是问题。

　　德国核聚变初(chū )创(chuàng )公司ProximaFusion获创纪录融资

　　上市公司中，中(zhōng )微公(gōng )司(sī )主营产品的刻蚀设备、薄膜设(shè )备是(shì )半(bàn )导(dǎo )体前道关键核心设备，市场空间广(guǎng )阔(kuò )，技术壁垒较高。 公司的刻蚀设备及(jí )薄(báo )膜设(shè )备(bèi )持续获得众多客户的认可，针(zhēn )对芯片(piàn )制(zhì )造中关键工艺的高端产品新增付运(yùn )量(liàng )及(jí )销售额显著提升。富创精密紧跟先(xiān )进(jìn )制程发展趋势及客户需求，坚持自主(zhǔ )研(yán )发，以(yǐ )“高精密多工位复杂型面制造(zào )技术(shù )”、“高精密微孔制造技术”、“不锈(xiù )钢(gāng )超(chāo )高光洁度制造技术”、“特氟龙加(jiā )工(gōng )技术(shù )”为核心技术代表，主要应用于(yú )工艺零(líng )部(bù )件中的过渡腔、传输腔、反应腔、匀(yún )气(qì )盘及工艺气体传送与流量控制等产(chǎn )品(pǐn )中，并应用于刻蚀、薄膜沉积、CMP 等设(shè )备(bèi )中。上(shàng )海新阳主要开发用于集成电路(lù )制造(zào )的(de )关(guān )键工艺材料，包括电镀液及添加剂(jì )、清(qīng )洗液、光刻胶、研磨液四大系列产(chǎn )品(pǐn )，处(chù )于(yú )整个产业链的上游环节，随着(zhe )半导体(tǐ )制(zhì )造市场的增长而增长，并对半导体(tǐ )产(chǎn )业(yè )的发展起着重要支撑作用。

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